工业清洗及表面处理
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【48812】中微公司请求喷淋头清洗剂及整理洗刷办法专利有效地去除喷淋头电极气孔内的陶瓷沉积物一起去除使用过的电极外表的颗粒污染物、有机污染物

发布时间:2024-06-11 19:26:34   来源:工业清洗及表面处理

  金融界2024年6月7日音讯,天眼查知识产权信息数据显现,中微半导体设备(上海)股份有限公司请求一项名为“一种喷淋头清洗剂及整理洗刷办法“,公开号CN3.9,请求日期为2022年12月。

  专利摘要显现,一种喷淋头电极清洗剂,所述喷淋头电极清洗剂包含(a)弱酸或酸性氨基酸,(b)有机胺,(c)抗蚀剂。所述弱酸或酸性氨基酸可以轻松又有效地螯合喷淋头电极外表的金属离子污染物,所述有机胺缓冲所述清洗剂的pH值,一起起到辅佐螯合剂的效果,所述抗蚀剂有效地维护喷淋头电极的铝或铝合金基材不被清洗剂腐蚀。本发明的喷淋头电极清洗剂可以在不腐蚀铝合金等基材的情况下,有效地去除喷淋头电极气孔内的陶瓷沉积物,一起去除使用过的喷淋头电极外表的颗粒污染物、有机污染物。

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